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■ 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心

  中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心成立于2009年 4月,是中国科学院微电子研究所与嘉兴市人民政府共同组建的技术转移转化、研发、中试和高新技术产业孵化的创新平台机构,是嘉兴市编委批准设立的自收自支事业单位。现有研发区面积300余平方米,位于南湖科创中心JRC大楼A区,中试孵化区面积1280平方米,位于中科院嘉兴中心中试产业化基地,并正在规划建设10亩的产业示范区。现有研发团队21人,其中博士生导师3人,中科院“百人计划”特聘研究员1人,博士学位4人,在读博士生6人,硕士4人。现有资产300万元,其中仪器设备200万元。
  工程中心主要致力于等离子体技术的产业化应用转化工作,依托中国科学院微电子研究所微电子设备技术研究室雄厚的研发力量、人才优势和综合技术实力,结合嘉兴及周边地区发达的产业基础、创新体制以及强有力的政府支持,工程中心成功研制出等离子体纺织前处理设备、KE-320型高亮度LED图形化衬底刻蚀系统、KMT-200A&KMP-200B原子层沉积系统、等离子体低温灭菌柜、ICP-98C型高密度等离子体刻蚀机、PIII-ICP08A等离子体浸没式离子注入机、等离子体化验单灭菌消毒设备、HQ-8B型等离子体增强化学气相淀积系统(PECVD)和SE-3型太阳能电池刻蚀机;并成功开发出便携式等离子表面处理设备商业样机,社会反映良好。
  另外工程中心的等离子体薄膜在线连续功能化处理设备和等离子体纤维处理设备的样机也进入中试阶段,计划年内完成商业样机的开发工作。

  主要研究方向与产品介绍:

  一.KE-320高亮度LED图形化衬底刻蚀系统图形化蓝宝石衬底、硅衬底、氮化硅外延层刻蚀适用配套工艺包,提供全方位解决方案独特结构设计,全进口配件,面向工业化生产需要全自动生产,触摸屏控制,实时掌握工艺流程参数单次最高27片,衬底托盘定制,适于不同产能需求。


 
  二.KMT-200A&KMP-200B原子层沉积系统国内首台脉冲等离子体增强原子层沉积系统提供多种薄膜生长技术方案,方便用户使用多路前躯体气路,适用范围更广0.1-2.0 Å /循环沉积速率非均匀性<1%、直径200 mm以下基片尺寸兼容。



KMT-200A&KMP-200B原子层沉积系统

  三.常压等离子体技术在纺织面料和薄膜的表面改性处理领域的应用
    常压等离子体纺织面料前处理设备
    用途: 对纺织面料表面进行改性处理,替代传统退浆工艺。  
    特性: 较传统工艺,降低能耗30%以上。
       能提高面料色泽饱和度,色牢度,改善面料手感。
       省掉碱并减少各类化学助剂的使用,大大减少了污水的排放,减轻了对环境的污染。

  四. 低温等离子体在医疗灭菌领域的应用
    医疗器械低温等离子体灭菌柜
    用途: 对各种医疗器械进行低温无损伤灭菌
    特性: 灭菌时间短,是传统灭菌时间的1/10
       零排放,不会形成二次污染。
       操作简单,实现全自动操作。

 
 
  五.便携式等离子刷
    设备具有体积小、重量轻、使用方便、通用性强等特性,适合各种工况下的材料表面处理工艺,采用模块化设计,可以组合使用,更加方便。

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