前瞻创新成果转化平台-纳米磨料与抛光液研发技术
研究方向:
高密度相变存储器方向
高纯胶体二氧化硅磨料的可控制备技术
材料表面的高效移除技术
晶圆表面的均匀抛光技术
图形晶圆表面的缺陷控制技术
浙公网安备 33040202000778号